연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

이온주입기

Ion implanter

DRIS No. DRIS-1-0420
시설장비등록번호 NFEC-2014-08-191073
보유기관 경북대학교
담당자
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장비정보

모델명 350DE 제작사 Varian
취득일자 2005-01-14 취득금액 200,000,000원
5대 미래산업 분류 해당없음 활용용도 시험
표준분류 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 이온주입장치
장비위치
대구광역시 북구 대학로 80 (산격동) IT3호관 B01A 경북대학교 IT3호관 B1 B04
장비설명 Varian 350DE
The Performance Specifications for the Model 350D Ion Implanter are listed below:

Energy Range:
10 to 200KeV (extendable to400 KeV)

Beam Current:
Minimum for all conditions30 nanoamperes.
Scanned through 125mm circular mask.

Wafer Throughput:
Up to 350 waters/hour for 5second implants.

Dose Accuracy:
The actual dose received follows an approximately mormal distribution about the mean dose level.
This means that 68% of all dose levels received will lie within ±1δ ≤ 95% within ±2δ ≤ and 99% within ±3δ where δ is the standard deviation....
구성 및 기능
사용/활용예
이용안내
유의사항

이용료안내

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